万物皆生，其中一定有好的，但也有坏的，我们的紫外试验箱也是如此。近年来，由于市场压力，设备的性能不断提高。紫外线循环、水分循环和加热系统是最好的证明。

       据说，在学习的过程中，我们必须取其优势，不断改进。是的，在生产紫外试验箱的过程中，我们经常从祖先的方法中学习，但我们不会复制原件。我们将添加我们自己的想法，就像我们增强了水分循环功能一样，随着温度的升高，湿度对材料的破坏力会急剧上升。因此，在湿曝光过程中，温度控制是最近的要求。此外，为了产生加速效果，需要在湿曝光过程中保持高温环境。在设备冷凝过程中，温度可设置在40℃至60℃之间的任何一点。紫外线循环一级的光化学反应对温度变化不敏感。二次反应的速度与温度变化密切相关。一般来说，随着温度的升高，反应速度会加快。因此，在紫外线曝光试验过程中，温度控制将加速试验中使用的最高温度与材料在实际应用中遇到的温度相匹配。UV在设备中的温度设置从50℃到80℃的任何一点都取决于光照度水平和室内环境温度。设备的温度调节通过一系列系统完成，如空气加热器、水加热器等具有微机计算功能的控制器。

       如果我们不努力工作，我们就不会成功。今天，我们的紫外试验箱依靠前辈的知识积累，这已经是我们自己的想法。因此，我们必须在前进的道路上不断学习。只有在学习过程中取其精华，去其糟粕，我们才能成功。